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368令人恐惧的精度代差

368令人恐惧的精度代差 (第2/2页)
  
  要知道传统的一台EUA光刻机工作24小时就需要消耗3万度电,在整个工业领域中是出了名的超级电老虎!
  
  譬如现目前半导体产量最大的湾积电厂,它一整年的耗电量就达到了143亿度,一座厂相当于一个千万级居住人口城市一整年的耗电量。
  
  在如此庞大的电力供应下,EUA光刻机本身的电路系统必须做到极高的稳定性。
  
  一旦出现电压不稳,很容易出现短路损坏光刻机内部精密的电子元件。
  
  而陈决造出的这台白色光刻机,其精度更是比普通EUA光刻机高出了几十倍,再加上体型的收缩,内部的电路走线更是被陈决大幅度魔改了一番。
  
  想要给这台机器供上电可不是容易的事情,为此林卫国等人还特意将地下工事的输电电缆进行了一阵改造,搭配上了特高压的输送电口。
  
  等到电源线一搭,庞大的电力开始正式输入,洁白无瑕的机体外壳上亮起来一个四方、简约、内置的操控面板。
  
  只是这会儿控制面板内并没有导入光刻程序,因为陈决造的只是裸机,想要让它进行运作流片还得导入特定的EDA设计程序才行。
  
  好在光电所这边最不缺的就是芯片设计程序!
  
  在边上讨论了片刻后,林卫国就在陈决的指导下,将一块大型数据盘插入了机器当中,顺带从里面读取了一份最新型的芯片设计图出来。
  
  “果然是原子级别的精度!”
  
  “连XYZ轴的参数都注明了极限位移能够达到0.1纳米!”
  
  “0.1纳米的干式光刻?我感觉自己就像是在做梦!”几个陪同操作的技术人员看到显示器上的数据后,都忍不住惊叹了起来。
  
  反倒是林卫国在旁边有些苦涩地抿了抿嘴。
  
  因为0.1纳米这个加工精度完全超出了他们所的芯片设计图纸精度上限!
  
  要知道,现目前的集成电路设计图可是动不动就包含上百亿个晶体管。
  
  像最新型的麒麟系列9000芯片,内置了CPU和GPU两种功能,它的晶体管数量更是达到了150亿以上。
  
  这还只是运用了传统的5纳米工艺!
  
  一旦提高到0.1纳米,相当于把加工精度在原有基础上提升了50倍。
  
  光刻的精度越高,晶体管之间的间隔缝隙被缩小,一块芯片上能被利用的空间就会被近乎无限一样放大。
  
  加工精度高了50倍以后,单块同样大小的麒麟芯片上的晶体管数量,可不是简单的1×50那样提升。
  
  而是会呈现指数级爆拉!
  
  能一口气把晶体管干到千亿甚至万亿以上!
  
  可问题是,这种堪称魔鬼一样的超级芯片的机器确实是被陈决搞出来了,但是相应适合0.1纳米工艺芯片图纸却没有现成的。
  
  毕竟种花家在EDA芯片设计这块同样与国外存在不小的代差,能研发EDA图纸的企业和单位放眼全国都是寥寥无几。
  
  哪怕是林卫国所在的光电所,最高也只能拿出几款百亿级的芯片设计图。
  
  面对眼前这台陌生的白色机器,此刻的林卫国感觉自己像是回到了自己刚参加工作时,曾经参加过某个国外大型半导体产业论坛时的一次趣谈。
  
  在那次论坛上,林卫国遇到了一个外企高管,那位外企高管见他是个种花家人就私下半开玩笑的说道:“伱们种花家不行!因为就算给你们EUA光刻机的全部设计图纸,你们的配套工艺跟不上,也一样加工不出来。”
  
  那种技术之间的壁垒代差,在当时的林卫国眼里就好像老婆跟人跑了一样,满脑子的无力感与恐惧感让他记忆深刻。
  
  但是经过了几十年的奋发追赶,那种对技术代差的恐惧感早就被林卫国拋到了脑后。
  
  直到他遇到了陈决造出的这台白色光刻机!
  
  那种无力感再次从记忆深处涌了上来!
  
  “还好……还好这台机器是我们自己人搞出来的……”
  
  林卫国在机器前汗流浃背地稍稍安慰了一下自己,他感觉就这一会儿功夫,自己身上流的汗比以往整个夏天都多。
  
  (本章完)
  
  
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